Fluorine plasma etching modulates submicron topography, physico-chemical aging and biological responses of titanium dental implants

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Fluorine plasma etching modulates submicron topography, physico-chemical aging and biological responses of titanium dental implants

Autor(en): Rupp, Frank; Illing, Barbara; Felde, Nadja; Xu, Zeqian; Schultheiss, Jacob; Kimmerle-Mueller, Evi; Mohammadnejad, Leila; Krajewski, Stefanie
Tübinger Autor(en):
Rupp, Frank
Illing, Barbara
Xu, Zeqian
Schultheiss, Jacob
Mohammadnejad, Leila
Krajewski, Stefanie
Kimmerle-Müller, Evi
Erschienen in: Dental Materials (2026), Bd. 42, H. 4, S. 648-660
Verlagsangabe: London : Elsevier Sci Ltd
Sprache: Englisch
Referenz zum Volltext: http://dx.doi.org/10.1016/j.dental.2025.12.006
ISSN: 0109-5641
DDC-Klassifikation: 610 - Medizin, Gesundheit
600 - Technik
Dokumentart: Wissenschaftlicher Artikel
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